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日本sanmei納米壓印設備ImpFlex Essential

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更新日期:2024-03-22

簡要描述:

日本sanmei納米壓印設備ImpFlex Essential
納米壓印光刻作為下一代微細加工技術受到關注,它 比傳統光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產量。

日本sanmei納米壓印設備ImpFlex Essential
動力類型電動布局形式其他

日本sanmei納米壓印設備ImpFlex Essential

低價UV納米壓印設備ImpFlex Essential


納米壓印光刻作為下一代微細加工技術受到關注,它 比傳統光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產量。
該設備是在型號 ImpFlex 基礎上*降低成本的低價型號。
以低廉的價格實現低殘膜和均勻膜厚的壓印引擎,繼承自上層。

1. 搭載ImpFlex通用的壓印引擎,殘膜少,膜厚均勻性高!
2. *降低成本,實現低價!
3.支持消泡氣工藝!
4.兼容各種模具!
5. 豐富的選項可以升級!

日本sanmei納米壓印設備ImpFlex Essential

納米壓印光刻作為下一代微細加工技術受到關注,它 比傳統光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產量。
該設備是在型號 ImpFlex 基礎上*降低成本的低價型號。
以低廉的價格實現低殘膜和均勻膜厚的壓印引擎,繼承自上層。

1. 搭載ImpFlex通用的壓印引擎,殘膜少,膜厚均勻性高!
2. *降低成本,實現低價!
3.支持消泡氣工藝!
4.兼容各種模具!
5. 豐富的選項可以升級!

特征

1.實現高精度結構轉移


數據庫校正后停止位置和位置偏移
具有*并聯機構的“軟載物臺"實現了精細的轉印操作,可最大限度地減少轉印缺陷和納米級圖案形成。此外,新開發的 LED 光源可實現均勻的紫外線照射,并實現低邊緣粗糙度。


2.支持消泡氣工藝


消泡氣體工藝與大氣工藝的比較
該設備與消泡氣體工藝兼容(可選)。
即使在大氣印記中,氣泡消除氣體工藝也可以抑制氣泡缺陷的發生。

3.兼容各種模具


模具尺寸 □ 可以從 10 mm 轉移到最大 90 mm。
除石英外,還可以選擇使用其他材料,例如電鑄鎳。



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